日本NIKKATO日陶 高纯氧化铝燃烧容器坩埚 SSA-T

日本NIKKATO日陶 高纯氧化铝燃烧容器坩埚 SSA-T

该系列是Nikkato的经典烧结用器具系列,主要包含烧制器皿(Saggars)、坩埚(Crucibles)和承烧板,适用于电子、新能源、精密陶瓷、半导体、贵金属等领域的高温制程



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✨ 主要特点

  • 高纯度:Al₂O₃含量为99.5%,杂质含量低,耐高温,可最大限度降低对物料的污染

  • 耐高温性最高使用温度可达1800℃,适用于苛刻的高温环境

  • 抗热震性优异:致密的烧结结构使其在快速升降温过程中不易开裂变形

  • 高机械强度:弯曲强度高达260MPa,结构稳定性优异

  • 高密度:体积密度为3.9 g/cm³,致密度高

  • 化学稳定性优异:在氧化与还原气氛中极为稳定,对熔融金属、碱性蒸汽及腐蚀性气体具有良好的抵抗力

  • 低污染:极低的气孔率和杂质,避免高温下污染样品

📊 化学成分

成分含量
Al₂O₃(氧化铝)99.5%(典型值)
SiO₂(二氧化硅)0.1%

*注:SSA-T的Al₂O₃含量为99.5%,这是与SSA-S(99.6%)的核心区分点

🧪 物理与机械性能

性能参数数值
体积密度3.9 g/cm³
外观气孔率0%(致密)
抗弯强度260 MPa
弹性模量380 GPa
热膨胀系数7.8 × 10⁻⁶/K
热传导率21 W/(m·K)
电气电阻率(室温)> 10¹⁴ Ω·cm

📐 尺寸/型号系列

SSA-T提供丰富的标准尺寸,特别是方形坩埚(刚五坩埚)系列。以下列出其核心规格及相应盖子:

编号型号(SSA-T方形本体)外部尺寸 (mm)重量 (g)容量 (mL)盖子型号 (SSA-T盖)盖子外部尺寸 (mm)盖重 (g)
AS1-1-1736-0190角90×90×50510300AS1-1-1736-1190×90×5169
AS1-1-1736-02100角100×100×50557400AS1-1-1736-12100×100×5210
AS1-1-1736-03120角120×120×60846按计算约864AS1-1-1736-13120×120×5290
AS1-1-1736-04150角150×150×50971按计算约1125AS1-1-1736-14150×150×5462
AS1-1-1736-05200角200×200×1001900按计算约4000AS1-1-1736-15200×200×5800

补充说明

  • 盖子:方形坩埚本体不附带盖子,需根据本体尺寸另行订购。

  • 其他型号:除方形坩埚外,SSA-T系列还包括多种燃烧舟、保护管、承烧板(Setter) 等多种形状的容器及定型器具。具体尺寸请参照NIKKATO官方产品目录或咨询供应商

🛠 应用领域

SSA-T高纯氧化铝坩埚广泛应用于以下领域:

  • 电子元器件热处理:压电、介电材料等电子元件材料的高温烧结

  • 荧光粉材料热处理:荧光粉材料的高温烧结

  • 粉末冶金:金属及陶瓷粉末的高温烧结

  • 半导体/新能源:高纯度材料热处理、固态电池电解质烧结等

  • 实验室研究:单晶生长、催化剂测试等

  • 贵金属及金属熔炼:适用于贵金属及金属的熔化工艺。

🔬 系列对比(SSA-H / SSA-S / SSA-T / SSA-999H)

下表清晰对比了SSA-T在NIKKATO氧化铝系列中的定位:

产品代码Al₂O₃ 含量典型应用/定位特点
SSA-H95%通用型,性价比高,一般高温环境成本较低,适用于大多数常规烧结。
SSA-S99.6%高纯度,适用于高端热处理比SSA-H纯度更高,污染更低。
SSA-T99.5%更高纯度(99.5%以上),适用于精密烧结在纯度和成本之间取得完美平衡,是精密烧结的理想选择。
SSA-999H99.9%超高纯度,适用于半导体等尖端领域杂质含量最低,适用于对洁净度要求最苛刻的应用。

⚠️ 使用注意事项

  • 首次使用:使用前须缓慢烘烤到500℃方可使用

  • 加料方式:应根据坩埚容量加料,忌挤得太紧,以免物料受热膨胀导致容器胀裂

  • 取料方式:取出熔融物料时建议使用勺子舀取。如需使用卡钳等工具,应选择与容器形状相符的工具,避免局部受力过大

  • 存放环境:用后放置于干燥处,避免雨水侵入

  • 避免火焰直射:应避免强氧化火焰直接喷射于容器表面,以免加速氧化而缩短使用寿命

  • 冷却速率:不推荐在加热后立即进行急速冷却。建议加热速率控制在2~3℃/min,最好在降温后取出材料