🧪 核心参数与性能

• 材质纯度：ZrO₂ + Y₂O₃ 含量为 99.8%，高纯度确保了其在高温下对物料的低污染性。

• 体积密度：5.6 g/cm³。致密的微观结构赋予了产品低气孔率和高抗渗透性。

• 抗弯强度：室温下为 210 MPa，在 1200℃ 高温下为 90 MPa。高温抗弯强度数据确保了其在工艺温度下的结构稳定性，不易变形。

• 热膨胀系数：10.2 × 10⁻⁶/K，保证了其在快速升降温过程中的抗热震性。

• 热传导率：3.0 W/(m·K)，具有隔热效果，使炉内温度场更加均匀。

✨ 产品特性

ZR‑Y30 的核心优势在于其一系列特性：

• 极高耐热性：可耐受剧烈的高温工况（具体温度范围见下节）。

• 低污染与化学稳定性：高纯度使其在高温下几乎不与物料发生反应，能有效防止污染，这对于MLCC等电子陶瓷材料至关重要。

• 优异抗热震性：能承受快速的升降温流程而不开裂，显著延长了使用寿命。

• 耐腐蚀性：在氧化和还原气氛中都极为稳定，耐酸碱侵蚀。

• 精密成型：产品尺寸精确，能满足电子陶瓷基板烧结等对公差要求严格的工艺。

🔥 工作温度与预热

• 最高使用温度：可达 1600℃ ~ 1800℃。

• 首次使用预热：为保护坩埚，新坩埚首次使用前必须进行预热，通常在约500℃下缓慢烘烤1-2小时，以去除吸附的水分。

🛠 应用领域

这些特性使其广泛应用于以下对材料和工艺要求苛刻的领域：

• 金属与贵金属熔炼：铂、金等贵金属及特种合金的熔炼与铸造。

• 电子陶瓷与被动元件：作为MLCC（多层陶瓷电容器）、压电陶瓷等材料的高洁净烧结容器。

• 新能源材料：用于锂电正极材料（如钴酸锂）和固态电解质的高温合成。

• 半导体与高纯材料：作为扩散/氧化炉的高纯承载部件，避免金属污染。

• 玻璃与光学材料：熔炼光学玻璃、进行单晶生长等，ZR-Y30能提供超高温与结构稳定性。

• 实验室与科研：用于高温固相反应、热分析、XRF熔融制样等前沿研究。

📝 使用注意事项

为确保产品性能与使用寿命，请务必遵守以下操作规程：

• 缓慢升降温：升温速率不宜过快（建议≤5℃/min），同时避免剧烈冷热冲击，在100℃~300℃和1050℃~1200℃等敏感温度区间应适当放缓。

• 火焰管理：避免强氧化性火焰直接、长时间喷射在容器壁上。

• 配套盖子：如需进行挥发性物料处理，建议选配同材质的坩埚盖子。

• 合理加料：物料不应填装过满或过于紧实，应预留热膨胀空间。

• 规范取放：高温时使用专用夹具，轻拿轻放，防止局部受力过大。

💎 总结与选型建议

ZR‑Y30 是一款性能均衡的“标准”高纯氧化锆产品，适合绝大多数严苛应用。如果您需要更强的机械强度或更高的电化学性能，NIKKATO 还提供了同系其他高性能型号以满足特定需求：